Hafnium markmiðseinkenni
Hafnium markmið lögun: Flat Target, Special - laga aðlögun
Hafnium markhreinleiki: 3n5
Hafnium markmiðsstærð: unnin eftir teikningum eða sérsniðin af öðrum
Við getum einnig útvegað Hafnium vír, hafnium lak, hafnium korn, hafnium stangir, hafnium duft osfrv.
Hafnium markmið undirbúningsferli undirbúning Hafnium málms: Hafnium málmur er hráefni Hafnium markmiðsins, sem þarf að útbúa með því að draga úr hafnium tetraklóríði eða Hafnium flúoríði. Vinnsla á hafnium málmi: Hafnium málmur er unninn í nauðsynlega lögun og stærð, venjulega með því að smíða, teygja, klippa og aðrar vinnsluaðferðir. Hreinsun á Hafnium markmiði: Hreinsið óhreinindi og oxíð á yfirborði Hafnium markmiðsins til að tryggja hreinleika efnisins. Vinnsla og prófun á hafnium markmiðum: Bræðið kristallaða hafniumstöngina í ingots, vinnið ingotana í markmið af nauðsynlegri lögun og stærð og prófaðu síðan stranglega hreinleika og kornastærð til að tryggja að gæði Hafnium markmiðanna uppfylli kröfurnar. Ofangreint eru helstu skrefin í undirbúningi hafnium markmiða. Undirbúningsferlar mismunandi framleiðenda geta verið mismunandi, en almennt eru þeir byggðir á ofangreindum skrefum.
Tantal markmiðslýsing
Vöruheiti: Tantal Target
Vörumerki: TA1 TA2
Hreinleiki: meiri en eða jafnt og 99,95% 99,99%
Þéttleiki: 16,66g/cm3
Notkun: Tantal Sputtering markmið eru tantal blöð fengin með þrýstingsvinnslu, með miklum efnafræðilegum hreinleika, litlum kornastærð, góð endurkristöllun
Skipulag og samkvæmni í öxunum þremur, aðallega notuð við sputtering útfellingu sjóntrefja, hálfleiðara skífur og samþættar hringrásir
Húðun, Tantal Markmið er hægt að nota við bakskaut sputtering húðun, mikið tómarúm gettering virk efni osfrv. Það er mikilvægt efni fyrir þunn filmu tækni.
